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二季度業(yè)績亮眼!阿斯麥首席財務官戴厚杰:今年EUV光刻機業(yè)務同比預增三成,人工智能是主要驅(qū)動力

2025-07-16 17:00:39

阿斯麥(ASML)發(fā)布2025年Q2財報,凈銷售額77億歐元,毛利率53.7%,凈利潤23億歐元超預期。全年EUV光刻機業(yè)務預計同比增長30%,主要受人工智能驅(qū)動。預計2025年全年凈銷售額增長約15%,毛利率約52%。展望2026年,人工智能客戶需求堅實,但宏觀經(jīng)濟和地緣政治局勢存不確定性。高數(shù)值孔徑EUV光刻機收入持續(xù)增長。

每經(jīng)記者|朱成祥    每經(jīng)編輯|魏文藝    

荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)二季度業(yè)績亮眼。

7月16日,阿斯麥披露的2025年第二季度財報顯示,公司期內(nèi)實現(xiàn)凈銷售額77億歐元,毛利率為53.7%,凈利潤達23億歐元。

在2025年全年展望上,阿斯麥首席財務官戴厚杰(Roger Dassen)表示:“DUV(深紫外光刻機)和應用業(yè)務預計與2024年基本持平。”

針對各方關注的EUV(極紫外光刻)光刻機銷售情況,戴厚杰表示:“EUV在先進制程的發(fā)展中愈發(fā)重要,越來越多的客戶轉(zhuǎn)向使用EUV光刻機。因此,(今年)EUV業(yè)務預計將同比增長約30%,而人工智能是主要驅(qū)動力?!?/p>

毛利率超預期,裝機售后升級服務成關鍵

此前,阿斯麥預計今年第二季度凈銷售額在72億~77億歐元之間,毛利率介于50%~53%。此次公布的凈銷售額位于預測區(qū)間上限,而毛利率則高于預期。

對此,阿斯麥總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮(Christophe Fouquet)表示:“這主要得益于裝機售后業(yè)務中升級服務的增長,以及非經(jīng)常性的一次性費用帶來的成本下降。”

來源:阿斯麥2025年第二季度財報

傅恪禮預計,2025年裝機售后服務業(yè)務預計將增長約20%。一方面,上半年裝機售后服務業(yè)務增長顯著,NXE:3800機型的升級服務尤其突出;另一方面,下半年裝機售后服務業(yè)務有望持續(xù)提升,由于部分系統(tǒng)工具即將超過保修期,這些工具服務將增加裝機售后的收入。

對于二季度業(yè)績達到預測區(qū)間上限及超預期,戴厚杰認為主要有三方面原因:一是裝機售后環(huán)節(jié)的升級服務帶來額外收入;二是第二季度獲得一些非經(jīng)常性的一次性費用收益;三是關稅帶來的負面影響低于此前預期。

關于2025年第三季度及全年業(yè)績,傅恪禮表示:“我們預計2025年第三季度的凈銷售額在74億至79億歐元之間,毛利率介于50%至52%;預計研發(fā)費用約為12億歐元,銷售及管理費用約為3.1億歐元。對于2025全年,我們預計凈銷售額將增長約15%,毛利率約為52%。”

戴厚杰補充稱:“預計下半年的營收將高于上半年?;诋斍鞍l(fā)運計劃,第四季度的營收占比可能會比較高。”

AI客戶需求成支撐,EUV技術應用持續(xù)推進

市場動態(tài)方面,傅恪禮表示:“我們看到光刻機投資在晶圓廠總體投資中所占的比重持續(xù)保持強勁,尤其是在DRAM(動態(tài)隨機存取存儲器)領域,而TWINSCAN NXE:3800E(一種EUV光刻機型號)的推出也進一步鞏固了這一趨勢。與此同時,EUV光刻機的應用正在按計劃推進,其中包括高數(shù)值孔徑(High NA)系統(tǒng)。本季度,我們發(fā)運了首臺TWINSCAN EXE:5200B(一種高數(shù)值孔徑EUV光刻機型號)系統(tǒng)?!?/p>

展望2026年,傅恪禮表示:“我們看到人工智能客戶的核心業(yè)務基礎依然堅實,為其持續(xù)增長提供支撐。與此同時,宏觀經(jīng)濟和地緣政治局勢依舊在動態(tài)變化中。因此,盡管我們正在為2026年的增長做準備,但當前階段仍存在不確定性?!?/p>

“客戶轉(zhuǎn)向更先進的邏輯和存儲芯片生產(chǎn)將提升對先進光刻技術的需求,這有利于提升光刻機投資在晶圓廠總體投資中所占的比重。我們在低數(shù)值孔徑和高數(shù)值孔徑EUV 技術路線圖上取得的進展,以及合理的技術成本,將使我們能夠繼續(xù)支持更多的多重曝光向單次曝光轉(zhuǎn)變?!备点《Y總結(jié)稱。

值得注意的是,在阿斯麥EUV光刻機中,來自高數(shù)值孔徑EUV光刻機的收入也在增長。戴厚杰稱,高數(shù)值孔徑EUV光刻機2025年下半年的收入將超過上半年。

每經(jīng)記者注意到,高數(shù)值孔徑EUV光刻機是阿斯麥近年來推出的最先進光刻機產(chǎn)品。根據(jù)中國科學院半導體研究所2024年1月文章,高數(shù)值孔徑EUV光刻涉及對系統(tǒng)內(nèi)部光學系統(tǒng)的重大改造,在這個十年結(jié)束前,芯片行業(yè)有望依靠它來持續(xù)進步。

免責聲明:本文內(nèi)容與數(shù)據(jù)僅供參考,不構(gòu)成投資建議,使用前請核實。據(jù)此操作,風險自擔。

封面圖片來源:視覺中國-VCG211424884767

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